키오시아, 요코하마 테크놀로지 캠퍼스와 새로운 연구 센터 확장 발표

신규 투자로 연구 및 기술 개발을 강화하고 개방형 혁신 촉진

2021-05-14 11:50 출처: Kioxia Corporation

요코하마 테크놀로지 캠퍼스의 기술개발관 조감도

도쿄--(뉴스와이어)--메모리 솔루션 분야의 세계적 선도업체인 키오시아 주식회사(Kioxia Corporation)가 요코하마 테크놀로지 캠퍼스의 기술개발관을 확장하고 새로운 신코야스 첨단연구센터를 설립하기 위해 200억엔을 투자한다고 13일 발표했다.

새로운 시설은 2023년 개관할 예정이며, 가나가와현에 있는 R&D 사이트를 통합해 Kioxia의 연구 및 기술 개발을 강화하는 한편, 협업을 통해 혁신을 촉진할 수 있도록 효율성을 개선하고 보다 쾌적한 업무 환경을 조성하게 된다.

요코하마 테크놀로지 캠퍼스의 기술개발관 확장으로 현재 시설의 공간이 거의 두 배로 늘어나 키오시아는 제품 평가 기능을 확대하고 제품 품질을 향상시킬 수 있다. 또한 확장된 시설은 향후 제품 개발을 강화하기 위해 인력을 늘릴 수 있는 공간을 제공하게 된다. 새로운 건물은 고효율 에너지 절약 설비를 갖춘 친환경 설계가 특징이다.

신고야스 첨단연구센터는 특히 재료와 새로운 공정에 초점을 맞춘 다양한 연구에 사용될 클린 룸을 갖추고 있다.

키오시아는 이런 시설들에 투자함으로써 전 세계적으로 증가하는 수요를 충족하고 새로운 가치를 제공하는 혁신적인 메모리 기술과 제품을 창출함으로써 플래시 메모리 및 SSD 기술 개발 역량을 강화하는 것을 목표로 하고 있다.

키오시아는 메모리로 세상에 희망을 준다는 사명 아래 새로운 메모리 시대를 구축하는데 주력하고 있으며 시장 동향을 반영하는 자본 투자와 연구 개발을 통해 메모리 및 SSD 산업에서 입지를 강화하기 위해 노력하고 있다.

요코하마 테크놀로지 캠퍼스 기술개발관(가칭)

소재지: 가나가와현 요코하마시 사카에구 가사마 2초메

건물 규모: 6층

총 바닥 면적: 약 4만m2

착공 예정: 2021년 가을

완공 예정: 2023년 여름

신코야스 첨단연구센터(가칭)

소재지: 가나가와현 요코하마시 가나가와구 모리야초 3초메

건물 규모: 4층

총 바닥 면적: 약 1만3000m2

개관 일정: 2023년 여름

키오시아(Kioxia) 개요

키오시아는 플래시 메모리와 SSD 등의 개발, 제조 및 판매를 전문으로 하는 메모리 솔루션 분야의 세계적인 선도업체다. 2017년 4월 키오시아의 전신 도시바 메모리(Toshiba Memory)가 1987년 낸드 플래시 메모리를 발명했던 도시바(Toshiba Corporation)로부터 분사했다. 키오시아는 삶을 풍요롭게 하고 사회의 지평을 확장하는 첨단 메모리 솔루션과 서비스 분야를 개척하고 있다. 키오시아의 혁신적인 3D 플래시 메모리 기술 BiCS 플래시(BiCS FLASH)는 첨단 스마트폰, PC, SSD, 자동차 및 데이터 센터를 포함한 고밀도 적용에서 저장소의 미래를 만들어나가고 있다.

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